Vortex Type Hot N₂ Heating System
排気ラインの温度を、
より均一に。
多孔式の螺旋渦流供給と混合後温度制御により、副生成物の堆積・配管詰まり対策を支援するVT渦流式N₂ガス加熱装置です。
Challenge
排気ラインで起きる、温度低下と堆積
半導体製造プロセスでは、排気ガス中の副生成物が配管やスクラバー入口で析出・堆積し、圧力異常や清掃周期の短縮につながることがあります。
混合後温度の低下
ヒーター出口温度と、排気に混合した後の実際の管内温度には差が生じる場合があります。
副生成物の堆積
温度が下がる領域で粉体や副生成物が析出し、配管やスクラバー入口に蓄積します。
PM負担の増加
圧力異常、清掃作業、部品交換などが増え、設備稼働と保守計画に影響します。
Technology
螺旋渦流で、管壁まで熱を届ける
多孔式ノズルからN₂を螺旋状に供給し、管壁に沿った渦流を形成。排気との混合を促進し、配管内の温度分布を整えます。
- 多孔式・螺旋渦流供給
- 排気とN₂の混合後温度を基準に制御
- PID・SSR・流量監視による安定運転
Benefits
排気条件に合わせて、熱とN₂を最適化
温度均一性の向上
管壁に沿った流れにより、配管内の温度むら低減に寄与します。
N₂条件の最適化
必要温度に応じて、流量と設定温度の見直しを支援します。
堆積・詰まり対策
副生成物が析出しにくい配管環境づくりをサポートします。
PM負担の低減
清掃周期の延長と保守作業削減への貢献が期待できます。
Applications
主な使用箇所
排気温度の低下や副生成物の堆積が課題となる配管部に、設備条件に合わせてご提案します。
Comparison
従来方式との違い
| 比較項目 | 一般型 Hot N₂ | TAIWEI VT型 |
|---|---|---|
| 給気方式 | 単孔式 | 多孔式・螺旋渦流 |
| 温度制御点 | ヒーター出口温度 | 排気とN₂の混合後温度 |
| 初期混合 | 条件により不均一 | 均一化しやすい構造 |
| 運転監視 | 構成による | 流量監視・PID制御・通信対応 |
Measured Example
同等の末端温度を、より低い設定条件で
社内実測例では、4.5m地点で一般型180℃ / 60L/minと同等以上の温度を、VT型135℃ / 30L/minで確認しました。
※ 排気温度、排気流量、配管構成、加熱ジャケット条件を固定した社内評価例です。実際の効果は設備条件・プロセス条件により異なります。
Specifications
基本仕様
流量、ヒーター容量、接続口径、制御点数は設備条件に合わせて選定します。
Safety & Control
安定運転を支える安全機能
無流量時加熱停止
ガス流量を監視し、無流量時の空焚きを防止します。
過昇温保護
設定温度超過時に加熱を停止し、アラームを出力します。
漏電・過負荷保護
漏電遮断器とヒューズで電気回路を保護します。
状態表示・警報
表示灯とブザーで運転状態や異常を通知します。
FAQ
よくあるご質問
既存の排気ラインに追加できますか。
配管構成、設置スペース、排気条件を確認したうえで導入可否をご案内します。既存設備に合わせた接続・制御仕様のご相談が可能です。
温度はどの位置で制御しますか。
VT型では、N₂と排気が混合した後の温度を基準とする構成をご提案します。実際の測定位置は設備条件に合わせて決定します。
流量や接続口径は選択できますか。
必要なN₂流量、配管口径、接続方式に合わせて流量計と接続部を選定します。
事前評価や現場条件の確認は可能ですか。
現在の配管構成、排気温度、N₂流量、清掃周期などを確認し、評価方法と導入仕様をご提案します。
Japanese